• 昆明博華氣體有限公司,昆明高純氦氣,云南高純二氧化碳,昆明高純氧氣,云南高純氦氣,昆明高純工業氣體
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    四氟化碳

      詳細說明


      四氟化碳
             用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝,也用作激光氣體,用于低溫制冷劑、溶劑、潤滑劑、絕緣材料、紅外檢波管的冷卻劑。四氟化碳是目前微電子工業中用量最大的等離子蝕刻氣體,四氟化碳高純氣及四氟化碳高純氣、高純氧的混合氣,可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,在電子器件表面清洗、太陽能電池生產、激光技術、低溫制冷、泄漏檢驗、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。
      四氟化碳產品特征:
      分子量:88.01g/mol
      CAS No.:75-73-0
      相對蒸氣密度(空氣=1):3.038
      相對密度(水=1):1.96
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